日立化成との特許訴訟で和解　韓国メーカー

【ソウル聯合ニュース】韓国の半導体、ディスプレー装置メーカーK．C．Techは25日、半導体素材の酸化セリウムスラリー(CMPスラリー)の特許をめぐる訴訟で、日立化成と和解したと明らかにした。
　化学的機械研磨（CMP)に使用するCMPスラリーは半導体の平坦化工程に使用される研磨液。日立化成は2011年11月、自社の特許を侵害しているとして、米テキサス州オースティンの西部地方裁判所にK．C．Techを提訴。K．C．Techは2012年7月、韓国で特許無効の審判を申し立てていた。
　K．C．Techは和解が成立したことを受け、CMPスラリー事業を強化できるとみられる。