日本政府「サムスン電子の横浜研究拠点に最大200億円を支援」＝韓国報道

日本政府は「サムスン電子が横浜に新設した先端半導体研究開発拠点に、最大200億円を補助する」と発表した。

21日、共同通信と日本経済新聞の報道によると、経済産業省は「サムスン電子が横浜で、次世代半導体研究開発拠点を新設することにした」と発表した。

サムスン電子が日本の新たな研究開発拠点のために投資する額は400億円であることが伝えられる中、日本政府は半導体産業の振興のため、「ポスト5G基金」を通じてその半分を支援することにしたのである。

日本経済新聞は「サムスン電子はこの研究開発拠点で日本の半導体素材や装置メーカーなどと協力し、AI（人口知能）や5G（5世代通信）用半導体などの後工程技術研究を行なう」と伝えた。

日本政府はこれまで自国内の半導体製造能力育成のため、海外企業の誘致政策を展開してきた。そのためすでに、台湾企業“TSMC”の熊本工場設立などにも補助金を支援することを発表している。

経済産業省はこの日、総理官邸で投資促進策を話し合うために開かれた官民合同会議でも、先のような内容を報告した。

岸田文雄首相は会議で「日本への投資に全世界の企業の関心が集まっている」と語ったと、共同通信が伝えた。